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      • M-300藍岸探針臺M系列
        M-300藍岸探針臺M系列
        型號:M-300
        瀏覽量:155

        掌握晶圓檢測核心技術——專注半導體探針測試領域

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      • SA-300藍岸探針臺SA系列
        SA-300藍岸探針臺SA系列
        型號:SA-300
        瀏覽量:127

        SA 系列探針臺是一款在非真空條件下實現高低溫環境的測試探針臺。該產品采用氣冷制冷,自動控溫,設備配置非常豐富。自帶屏蔽暗室,一方面可以屏蔽無線電磁干擾,另外一方面也可以保持氮氣正壓環境下樣品在低溫時無結霜。該產品多數用于相關單位實驗室。產品優勢:可搭配高低溫溫控系統,溫度范圍為-60-300℃可實現半自動測試微腔屏蔽

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      • RIE-10NR日本SAMCO RIE等離子蝕刻設備
        RIE-10NR日本SAMCO RIE等離子蝕刻設備
        型號:RIE-10NR
        瀏覽量:221

        RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能、全自動反應離子刻蝕系統,能夠滿足非腐蝕性氣體化學最ke刻的工藝要求。 計算機化觸摸屏為工藝配方編程和存儲提供了用戶友好的界面。該系統可以實現精確的側壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。憑借其圓滑、緊湊的設計,RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。

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      • PHEMOS-1000 / PHEMOS-XEMMI/OBIRCH微光顯微鏡PHEMOS系列
        PHEMOS-1000 / PHEMOS-XEMMI/OBIRCH微光顯微鏡PHEMOS系列
        型號:PHEMOS-1000 / PHEMOS-X
        瀏覽量:547

        EMMI微光顯微鏡是一款高分辨率微光顯微鏡,它能通過探測半導體器件缺陷導致發射的微弱光和熱來定位失效位置。由于 PHEMOS-1000 可與通用探測儀結合使用,因此您可以使用您已經熟悉的樣品設置來執行各種分析任務。安裝可選的激光掃描系統可以采集高分辨率圖案圖像。不同類型的探測器可用于各種分析技術,例如發射分析、熱分析和 IR-OBIRCH 分析。

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      • 雙束掃描電子顯微鏡Helios 5 DualBeam
        雙束掃描電子顯微鏡Helios 5 DualBeam
        型號:
        瀏覽量:873

        用于 TEM 和 STEM 成像或原子探針斷層掃描的樣品制備。產品可實現先進的自動化操作,簡單易用,并且能夠進行高質量的亞表面 3D 表征。

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      • Oxford RIE反應離子刻蝕機PlasmaPro 80
        Oxford RIE反應離子刻蝕機PlasmaPro 80
        型號:
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        Oxford RIE反應離子刻蝕機PlasmaPro 80是一種結構緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統,可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置,便于使用,且能確保工藝性能。直開式設計可實現快速晶圓裝卸,是研究和小批量生產的理想選擇。 它通過優化的電極冷卻和出色的襯底溫度控制來實現高質量的工藝。

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