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      Hitachi離子研磨儀

      簡要描述:Hitachi離子研磨儀:IM4000PLUS是支持斷面研磨和平面研磨(Flat Milling&#174;*1)的混合式離子研磨儀器。借此,可以用于適用于各種諸如對樣品內部結構觀察和各類分析等,為評價目的樣品的制作。

      • 產品型號:IM4000 Plus
      • 廠商性質:代理商
      • 更新時間:2023-05-24
      • 訪  問  量:1228
      • 產品簡介
      品牌其他品牌價格區間面議
      出料粒度0.01mm以下樣品適用硬性樣品
      儀器種類研磨機產地類別進口
      應用領域電子

      Hitachi離子研磨儀特點

       

      高通量的斷面研磨

      配備斷面研磨能力達到500 µm/h*2以上的高效率離子槍。因此,即使是硬質材料,也可以高效地制備出斷面樣品。

      *2   在加速電壓6 kV下,將Si從遮擋板邊緣伸出100 µm并加工1小時時的最大深度

       

       

      Hitachi離子研磨儀斷面研磨

      ● 即使是由硬度以及研磨速度不同的成分所構成的復合材料,也可以制備出平滑的斷面樣品

      ● 優化加工條件,減輕損傷

      ● 可裝載最大20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的樣品

      斷面研磨的主要用途

      ● 制備金屬以及復合材料、高分子材料等各種樣品的斷面

      ● 制備用于分析開裂和空洞等缺陷的斷面

      ● 制備評價、觀察和分析所用的沉積層界面以及結晶狀態的斷面

      斷面研磨加工原理圖

       

      平面研磨(Flat Milling®

      ● 均勻加工成直徑約為5mm的范圍

      ● 可運用于符合其目的的廣泛領域

      ● 最大可裝載直徑50 mm × 厚度25 mm的樣品

      ● 可選擇旋轉和擺動(±60度~±90度的翻轉)2種加工方法

       

      平面研磨(Flat Milling®)的主要用途

      ● 去除機械研磨中難以消除的細小劃痕和形變

      ● 去除樣品的表層

      ● 消除FIB加工的損傷

       

       

       

      平面研磨(Flat Milling®)加工原理圖

       

      與日立SEM的樣品結合

      ● 樣品無需從樣品臺取下,就可直接在SEM上進行觀察。

      ● 在抽出式的日立SEM上,可按照不同的樣品分別設置截面、平面研磨桿,因此,在SEM上觀察之后,可根據需要進行再加工。

       

       

       

      功能

       

      冷卻溫度調節功能*1

      附冷卻溫度調節功能的IM4000PLUS
      附冷卻溫度調節功能的IM4000PLUS

       

       

      該功能可有效防止加工過程中,由于離子束照射引發的樣品的溫度上升,所導致樣品的溶解和變形。對于過度冷卻后會產生開裂的樣品,通過冷卻溫度調節功能可防止其因過度冷卻而產生開裂。

       

      *1     此調節功能不是IM4000PLUS的標配功能,而是配有冷卻溫度調節功能的IM4000PLUS功能。

       

      樣品:鉛焊料

       

      常溫研磨
      常溫研磨

      冷卻研磨
      冷卻研磨

       

       

      選項

       

      大氣隔離樣品桿

      大氣隔離樣品桿,可讓樣品在不接觸空氣的狀態下進行研磨。
      密封蓋將樣品密閉,進入真空排氣的樣品室后,打開密封蓋。如此,離子研磨加工后的樣品可以在不接觸空氣的狀態下直接設置到SEM*1、FIB*1、AFM*2上。

      *1    僅支持附帶大氣隔離樣品更換室的日立FE-SEM和FIB。

      *2    僅支持真空型日立AFM。

       

      鋰離子電池負極(充電后)

      大氣暴露

      大氣隔離

       

       

      用于加工時觀察的立體顯微鏡

      IM4000、IM4000PLUS通過設置在樣品室上方的立體顯微鏡,可觀察到研磨過程中的樣品。
      如果是三目型,則可以通過CCD攝像頭*3進行監控觀察。

      *3    CCD攝像頭以及監控器由客戶準備。

       

       

       

       

       
      規格 

       

      項目

      內容

      IM4000PLUS

      IM4000PLUS

      斷面研磨桿

      平面研磨桿

      使用氣體

      Ar(氬)氣

      加速電壓

      0 ~ 6 kV

      最大研磨速度(Si材料)

      500 µm/hr*1 以上

      -

      最大樣品尺寸

      20(W)× 12(D)× 7(H)mm

      Φ50 × 25(H) mm

      離子束
      間歇照射功能

      標配

      尺寸 

      616(W)× 705(D)× 312(H)mm

      重量 

      機體48 kg+回轉泵28 kg

      附冷卻溫度調節功能的IM4000PLUS

      冷卻溫度調節功能

      通過液氮間接冷卻樣品、溫度設定范圍:0°C ~ -100°C

      選項

      空氣隔離
      樣品夾持器

      僅支持斷面研磨夾持器

      -

      FP版斷面研磨夾持器

      100 µm/rotate*2

      -

      用于加工監控的顯微鏡

      倍率 15 × ~ 100 × 雙目型、三目型(支持CCD)

      *1 將Si從遮擋板邊緣伸出100 µm并加工1小時的最大深度

      *2 千分尺旋轉1圈時的遮擋板移動量。斷面研磨夾持器比為1/5

       

       

      觀察示例

       

      斷面研磨

      如果是大約500 µm的角型的陶瓷電容器,則可以3小時內制備出平滑的斷面。

      樣品:陶瓷電容器

      低倍圖像

      放大圖像

      即使硬度和成分不同的多層結構材料,也可以制備斷面。

      樣品:保險杠涂膜

      低倍圖像

      放大圖像

      這是通過鋰電池正極材料,斷面研磨獲得平滑截面的應用實例。
      在SEM上觀察到的具有特殊對比度的部位,從SSRM(Scanning Spread Resistance Microscopy)圖像來看,考慮為電阻低的部位。

      樣品:鋰離子電池正極材料 樣品制備方法:斷面研磨

       

      平面研磨(Flat Milling)

      可以去除機械研磨所引起的研磨損傷和塌邊,并可觀察到金屬層、合金層和無鉛焊料的Ag分布。

      樣品:無鉛焊料

      機械研磨后

      平面研磨后

      因老化等變得臟污的觀察面、分析面,通過平面研磨,也可以獲得清晰的通道對比度圖像和EBSD模式。

      樣品:銅墊片

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