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      Hitachi離子濺射

      簡要描述:Hitachi離子濺射采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設定加工條件,可處理較厚或較大的樣品(選配件)。

      • 產品型號:MC1000
      • 廠商性質:代理商
      • 更新時間:2023-05-24
      • 訪  問  量:948
      • 產品簡介
      品牌其他品牌價格區間面議
      出料粒度0.01mm以下樣品適用硬性樣品
      儀器種類研磨機產地類別進口
      應用領域電子

      日立離子濺射儀 MC1000 

       
      采用磁控型電極使樣品損傷最小化

       

      LCD觸摸屏設
      計操作簡單適

       

      記憶功能存
      儲處理方案

       

      適用復雜樣品

       

       

      特點

       

      ● Hitachi離子濺射采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設定加工條件

      ● 可處理較厚或較大的樣品(選配件)

      ● Hitachi離子濺射記憶功能可存儲常用加工條件

       

       

      技術規格

       
        
      項目描述

      放電

      類型

      磁控二極管放電型(電場垂直于磁場)

      電極組成

      反向平行盤(嵌入磁鐵)

      電壓

      最大 0.4 kV DC(直流可變)

      電流

      最大 40 mA DC

      噴鍍速率 *1(最大)
      [條件]
      壓力:7 Pa
      放電電流:40 mA
      標靶與樣品表面之間的距離:20 mm

      Pt 靶(選配件)

      15 nm/min

      Pt-Pd 靶(選配件)

      20 nm/min

      Au 靶(選配件)

      35 nm/min

      Au-Pd 靶(選配件)

      25 nm/min

      樣品尺寸

      最大直徑 

      φ60 mm

      最大高度

      20 mm

      機械泵

      135/162 l/min (50/60Hz)

      靶材*2

      Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)

      電源要求

      單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)

      尺寸

      寬度

      450 mm

      長度

      391 mm

      高度

      390 mm

      重量

      主機:約 25 kg
      機械泵:約 28 kg

      *1: 噴鍍速率僅供參考

      *2: 主機內不包括靶材。請從選項中選擇(鉑,鉑-鈀,金,金-鈀)。

       

      選配附件

       
      項目描述

      膜厚/溫度控制單元*1

      鍍層厚度控制范圍:1nm 至 30nm
      溫度控制范圍:室溫至低于室溫-25℃

      蒸鍍單元

      蒸鍍碳(鉛筆芯)

      大樣品倉*2

      最大直徑:φ150mm 最大高度:20mm

      變壓器

      適用電壓:115,200,208,220,230,240V

      *1﹠*2.需要同主機同時配置,*1不需要大樣品倉

       

      安裝要求

       
      項目描述

      室溫

      15 ~ 30℃

      相對濕度

      ≤85%

      主機功率

      AC 100V (±10%) ,50/60Hz,1.25kVA

      接地地阻

      ≤100Ω

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