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      Oxford RIE反應離子刻蝕機PlasmaPro 80

      簡要描述:Oxford RIE反應離子刻蝕機PlasmaPro 80是一種結構緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統,可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置,便于使用,且能確保工藝性能。直開式設計可實現快速晶圓裝卸,是研究和小批量生產的理想選擇。 它通過優化的電極冷卻和出色的襯底溫度控制來實現高質量的工藝。

      • 產品型號:
      • 廠商性質:代理商
      • 更新時間:2023-09-26
      • 訪  問  量:732
      • 產品簡介
      品牌其他品牌品牌牛津儀器

       

      Oxford RIE反應離子刻蝕機PlasmaPro 80

       

      PlasmaPro 80是一種結構緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統,可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置,便于使用,且能確保工藝性能。直開式設計可實現快速晶圓裝卸,是研究和小批量生產的理想選擇。 它通過優化的電極冷卻和出色的襯底溫度控制來實現高質量的工藝。

      ●  直開式設計允許快速裝卸晶圓

      ●  出色的刻蝕控制和速率測定

      ●  出色的晶圓溫度均勻性

      ●  晶圓最大可達200mm

      ●  購置成本低

      ●  符合半導體行業 S2 / S8標準

       

         

       

       

       

       

       

       

       

         應 用    

      ●  III-V族材料刻蝕工藝

      ●  硅 Bosch和超低溫刻蝕工藝

      ●  類金剛石(DLC)沉積

      ●  二氧化硅和石英刻蝕

      ●  用特殊配置的PlasmaPro FA設備進行失效分析的干法刻蝕解剖工藝,可處理封裝好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圓

      ●  用于高亮度LED生產的硬掩模的刻蝕

       

         系統特點    

      ●  小型系統 —— 易于安置
      ●  優化的電極冷卻系統 —— 襯底溫度控制
      ●  高導通的徑向(軸對稱)抽氣結構 —— 確保能提升工藝均勻性和速率
      ●  增加<500毫秒的數據記錄功能—— 可追溯腔室和工藝條件的歷史記錄
      ●  近距離耦合渦輪泵 —— 抽速高迅速達到所要求的低真空度
      ●  關鍵部件容易觸及 ——系統維護變得直接簡單
      ●  X20控制系統——大幅提高了數據信息處理能力, 并且可以實現更快更可重復的匹配
      ●  通過前端軟件進行設備故障診斷 —— 故障診斷速度快
      ●  用干涉法進行激光終點監測 —— 在透明材料的反射面上測量刻蝕深度 (例如硅上的氧化物),或者用反射法來確定非透明材料(如金屬)的邊界
      ●  用發射光譜(OES)實現較大樣品或批量工藝的終點監測 —— 監測刻蝕副產物或反應氣體的消耗量的變化,以及用于腔室清洗的終點監測

       

       

      RIE of InP waveguide

      7 µm polyimide feature RIE

      Sub µm Si mesa etch

       

      Deep Si feature etch by ICP-RIE
      cryo process

       

      Failure analysis - fast metal layer
      exposure in the PlasmaPro FA ICP
       

       

       

       

       

      新增: PTIQ軟件

       

      PTIQ是針對PlasmaPro和Ionfab工藝系統而開發的最新智能軟件解決方案。

      ● 對響應系統出色的控制水平

      ● 最da化系統性能與工藝性能

      ● 多級別軟件配置以匹配用戶需求

      ● 全新的視覺布局與設計界面

       

       

       

       

       

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