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      日本SAMCO RIE等離子蝕刻設備

      簡要描述:RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能、全自動反應離子刻蝕系統,能夠滿足非腐蝕性氣體化學最ke刻的工藝要求。 計算機化觸摸屏為工藝配方編程和存儲提供了用戶友好的界面。該系統可以實現精確的側壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。憑借其圓滑、緊湊的設計,RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。

      • 產品型號:RIE-10NR
      • 廠商性質:代理商
      • 更新時間:2023-08-11
      • 訪  問  量:221
      • 產品簡介
      品牌其他品牌晶圓尺寸8英寸
      尺寸500 mm(寬)x 920 mm(深)x 1501 mm(高)反應室尺寸φ340mm

       

      反應離子刻蝕機

      SAMCO RIE-10NR

       





      簡介:

      RIE-10NR是一種新型的低成本、
      高性能、全自動反應離子刻蝕系統,
      能夠滿足非腐蝕性氣體化學最KE刻
      的工藝要求。
      計算機化觸摸屏為工藝配方編
      程和存儲提供了用戶友好的界面。
      該系統可以實現精確的側壁輪
      廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。
      憑借其圓滑、緊湊的設計,
      RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。
       
      應用:
      硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、
      砷化鎵、鉬、鉑、聚酰亞胺等材料的
      腐蝕失效分析中的選擇性層腐蝕。




       

       

       

       

       

       

       

      主要功能和優點:
      1、加工至?220 mm(?3“x 5,?4"x 3,?8"x 1)。
      2、高選擇性各向異性蝕刻滿足嚴格的工藝要求全自動“一鍵式"操作。
      3、自動壓力控制,允許獨立于氣流干泵和系統布局的過程壓力精確控制,便于維護。
      4、于Windows的用戶界面,豐富的配方和內置的數據記錄功能,是一個可靠和持久的系統,全球安裝了400多個系統。
       
       
       
      主要參數規格:
      基板
      220 mm(?3“x 5,?4"x 3,?8"x 1)
      負載
      開放式
      上下電極
      ?240 mm
      射頻功率
      300瓦@13.56兆赫,自動匹配(500瓦為選項)
      可切換射頻供電電極(陽極/陰極模式)為選項
      氣體管道
      內部2條MFC控制的氣體管道(最多6條)
      干泵(500升/分鐘)
      操作系統
      觸摸屏操作(可選擇基于Windows的用戶界面)、配方管理
      端點檢測
      光學發射光譜(OES)作為一種選擇
      尺寸
      500 mm(寬)x 920 mm(深)x 1501 mm(高)

       

       
       
       
                   
       
       
       



       


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